Снос зданий:
ecosnos.ru
Главная  Пирометры частичного излучения 

1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 [ 26 ] 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 47 48 49 50 51 52 53 54 55 56 57 58 59 60 61 62 63 64 65 66 67 68 69 70 71 72 73 74 75 76

Характеристики и области применения оптических печей

Таблица 4.6-

Источник излучения

Отражательная система

Технические характеристики

Область иримененвя

Ивготовитель

Максимальна я плотность лучистого

потока, Вт/см

Максимальная температура, С

Диаметр рабочего пятна, см

ТИП

Мощность, Вт

Тип

Диаметр, см

Лампа накаливания

Бипарабо-лоид

Класс 700

А

Теплофизические исследования

ЭНИН, Москва

Графитовый нагревательный элемент

Полусфера

Класс Б 1700

Класс В

Плавка стали; тарирование высокотемпературных термопар

Институт технической теплофизики АН УССР (Киев)

Дуга высокой интенсивности

До 600

До 1700

2,5*

Имитатор солнечной печи

ЭНИН (Москва)

До 500

До 2300

2,5*

Теплофизические иссле-

ВНИИТ (Москва)

До 1500

, 3,3*

дования

10-12

Бипарабо-

3200

Выращивание монокрис--

таллов, исследование свойств материалов при иагреве

1400

1600

Прожекторный завод

Параболоид

Выращивание монокристаллов, исследование

(Москва)

свойств материалов при нагреве

Бипарабо-лоид

10,0

Нагрев больщих образцов



Дуга высокой интенсивности

Бшарабо-лоид

До 1500

До 2700

0,8-0,9*

Теплофизическне исследования, возгонка, наращивание монокристаллов

Институт физико-технических проблем АН Литовской ССР (Каунас)

Ксеноновая лампа СВ

Моноэллипсоид с конденсором

16,5

2700

0,25

Сварка металлических изделий

Авиационно-технологический институт (Москва)

Биэллипсоид

-700

2700

Выращивание огнеупорных окислов

Всесоюзный научно-исследовательский институт электротермического оборудования (Москва)

Две ксеноновые лампы

. Два моноэллипсоида

2700

Изучение свойств неорганических материалов при высоких температурах

Институт неорганической химии СО АН СССР (Новосибирск)

Класс Г

Моноэллипсоид

1000

До 3000

Плавка металлов

Завод электровакуумных приборов (Москва)

5 60

Моноэллипсоид или биэллипсоид

100-5000

5-0,5

Сварка металлических деталей

Всесоюзный научно-исследовательский свето-

Ксеноновая

Биэллипсоид

1500

3000

0,8-0,9*

Выращивание монокристаллов зонной плавкой

технический институт, МЭИ (Москва)

лампа СВД

31,5

3000

0,8*

Выращивание монокристаллов, исследование свойств термостойких материалов; оплавление кварца

Институт физической химии АН СССР (Москва)

90% энергии.




до / мм. Печь смонтирована в защитном кожухе и может перемещаться вдоль вертикальной оси вверх и вниз, чем обеспечивается фокусировка излучения в рабочем пятне. Плотность лучистого потока достигает 450-1800 Вт/м^.

Печи с ксеноновыми лампами отличаются малыми габаритными размерами, большим процентом использования лучистого потока источника из-за малых габаритных размеров лампы и прозрачности закрытого дугового разряда, постоянством величины лучистого потока в процессе горения, зависящим от стабильности источника питания, и большим сроком службы. Такие печи просты по конструкции, а в процессе работы не выделяют газов, загрязняющих окружающую среду. Их недостаток - сравнительно небольшой объем рабочей зоны при высокой степени концентрнции лучистого потока.

Оптические печи с комбинированным источником нагрева применяют при технологических процессах, требующих мощные тепловые потоки, которые обеспечивают температуру 10 ООО-15 Ot 0° С, с последующим поддержанием регулируемого процесса нагрева с помощью оптической системы, и при процессах, требующих быстрый нагрев материалов с низким коэффициентом поглощения лучистого потока.

В этих печах имеется два источника нагрева: инфракрасный излучатель и дополнительный высокотемпературный источник, работающий на другом принципе (индукционный, омический, плазменный и т. д.).

На рис. 4.8 показана принципиальная схема комбинированной установки, состоящей из двух высокотемпературных источников нагрева: плазменной горелки 4 для инертного газа и дуговой лампы высокой интенсивности в.моноэллипсоидном отражателе или .концентрированной солнечной энергии (на рис. 4.8 показан лишь сконцентрированный лучистый поток 2).

Температура нагретого газа в плазме (15 000° С) гораздо выше, чем теоретически достижимая температура в печах с источником инфракрасного излучения. Камеру с нагреваемым материалом помещают в фокальную плоскость печи и вращают вокруг оптической оси системы. В окно камеры, плоскость которого совпадает с фокальной плоскостью печи, вводят плазменную горелку и нагревают ма-.териал до требуемой температуры.

Комбишгрованные печи могут быть различными по конструкции. Плазменный и радиационный источники размещают с одной стороны или с противоположных сторон (на рис. 4.8 - второй вариант). Недостатки таких печей - большие в 1,5-2 раза габаритные размеры по сравнению

с установками, снабженными- лишь радиационным нагревом; невозможность проведения обработки образцов в вакууме и предотвращения действия магнитных или электрических полей (при индукционном способе нагрева).

Рис. 4.7. 0-ттическая печь с газоразрядной ксеноно-вой лампой: *

J - каркас; 2 - отражатель:

3 -лампа типа ДКСР-ЮООО;

4 - коитротражатель; 5 - кварцевая конденсорная оптика; 6 - водоохлаждаемая диафрагма; 7 - предметный стол; S -вода; 9 -воздух


Рис. 4.8. Оптическая печь с комбинированным источником питания:

/ - камера; 2 - сконцентрированный лучис-тый поток; 3 - образец; 4 - плазменная горелка



1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 [ 26 ] 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 47 48 49 50 51 52 53 54 55 56 57 58 59 60 61 62 63 64 65 66 67 68 69 70 71 72 73 74 75 76